Deutsch-Chinesisches Symposium im Deutschen Patent- und Markenamt (DPMA)

Neue Impulse für Entwicklung des internationalen Patentsystems

29. September 2008

Eine 6-köpfige Delegation des "Staatlichen Amts für Geistiges Eigentum der Volksrepublik China" (SIPO) unter Leitung von Präsident Prof. Tian Lipu erörterte mit rund 70 Vertretern aus Wissenschaft, Wirtschaft, Verwaltung, Rechts- und Patentanwaltschaft aktuelle Fragen des Geistigen Eigentums. Im Mittelpunkt stand die Diskussion alternativer Modelle der internationalen Zusammenarbeit. Als zweiter Schwerpunkt wurde das internationale Patentsystem im Spannungsfeld zwischen Recht, Ökonomie und Technik behandelt.

Das Symposium fand im Rahmen des Partnerschaftsabkommens zwischen DPMA und SIPO statt, das im Oktober 2007 in Shanghai abgeschlossen wurde und die seit nahezu 30 Jahren bestehende Zusammenarbeit der beiden Ämter fortschreibt. "Das DPMA hat seit den achtziger Jahren des letzten Jahrhunderts den Aufbau des SIPO aktiv unterstützt. Dadurch ist gegenseitiges Verständnis und ein enges, vertrauensvolles Zusammenwirken entstanden." erläutert Dr. Jürgen Schade, Präsident des DPMA.

Die Globalisierung der Wirtschaft fordert auch im Patentbereich eine internationale Vernetzung der nationalen Patentämter. Dabei treffen unterschiedliche Rechts- und Verfahrenssysteme aufeinander. Schade: "DPMA und SIPO wollen sich gemeinsam diesen Herausforderungen stellen. Es ist uns ein ganz besonderes Anliegen, der weltweiten Entwicklung des Patentsystems durch internationale Kooperation mit anderen Patentbehörden neue Impulse zu geben und gemeinsame strategische Ziele zu verfolgen."

Das DPMA engagiert sich intensiv für eine globale Harmonisierung der Patentsysteme: Es arbeitet bilateral mit diversen nationalen Patentämtern zusammen und bringt daneben sein Know How und seine langjährige Erfahrung in Arbeitsgruppen und Projekten ein, die zusammen mit der Europäischen Patentorganisation (EPO) oder der Weltorganisation für geistiges Eigentum (WIPO) ins Leben gerufen wurden.