T.3. Infrarot- & Ultraviolett-Astronomie

T.3.1.1. Vielschichten-Versiegelung

Eine innovative Technologie, um bei diesen Wellenlängen trotzdem mit Reflektoren und senkrechtem Einfall des UV-Lichts arbeiten zu können, ist die Vielschichten-Versiegelung ("multi-layer-coating") von Spiegeln. Diese Technik ist auch aus der Lithographie für die Produktion von integrierten Schaltkreisen bekannt. Dabei wird eine Materiallage, die das extreme Ultraviolett (EUV) nur wenig absorbiert (wie Silikon) vielmals mit einer Schicht abgewechselt, die "Licht" aus diesem Frequenzbereich stark streut (wie Molybdän).

Diese Schichten werden mittels Vakuumbedampfern derart auf einen Spiegelgrundkörper aufgebracht, dass Photonen einer ganz bestimmten UV-Wellenlänge an den Grenzen der nur wenige Nanometer mächtigen Schichten so reflektiert werden, dass sie nach außen gesehen konstruktiv interferieren (vgl. US 6 448 562 B1 oder US 2004 0 061 868 A1 (Figur MLC)).

Figur MLC: Optisches Element mit einer Vielschichtenversiegelung für extremes UV (aus US 2004 0 061 868 A1).

Mit dieser Technik können konventionelle Teleskopkonstruktionen für die Registrierung des extremen UV genutzt werden, wie mit dem satellitengestützten "Extreme ultraviolet Imaging Telescope" (EIT) auch in der Praxis bewiesen wurde. Allerdings mit der Einschränkung auf ausgesuchte Wellenlängen, die exakt die Reflexionsbedingungen der Vielschichten-Versiegelung erfüllen. Für den Fall, dass mehrere verschiedene Frequenzen mit ein und derselben Apparatur aufgezeichnet werden sollen, müssen mehrere Einzelspiegel oder mehrere geometrisch ausgesucht angeordnete Sektoren eines Spiegels per individueller Bedampfung für verschiedene Wellenlängen präpariert werden.

Zitierte Patentdokumente
Patentnummer	Jahr	Titel
US 6 448 562 B1	1999	Remote detection of fissile material
US 2004 0 061 868 A1	2002	Figure correction of multilayer coated optics

Ergänzungsdokumente
Patentnummer	Jahr	Titel
US 6 634 760 B2	2001	Low-cost method for producing extreme ultraviolet lithography optics
US 7 436 520 B1	2005	Method of calibrating an interferometer optics and of processing an optical element having an optical surface

nach oben