Betrachtet man das extreme UV (EUV), kann man diese Frage verneinen, denn Strahlung aus diesem Wellenlängenbereich bereitet dieselben Schwierigkeiten wie Röntgenstrahlung, will man sie mit herkömmlichen optischen Hilfsmitteln lenken oder leiten.
Gewöhnlich beschichtete Spiegel absorbieren Wellenlängen unterhalb von 160 nm. Daher wurde häufig - wie in den Wolter-Teleskopen für Röntgenstrahlen - im extremen UV-Bereich ein streifender Einfall auf einen Reflektor favorisiert (US 4 941 163 A, Figur UVX) oder man verwendete Beugungsgitter (z.B. WO 2005 119 365 A2).
Wie Figur UVX zeigt, baut die Geometrie der für die streifenden Einfall konzipierten Reflektorelemente (19,40a,40b,52,54) unter anderem auf Oberflächenabschnitten von Rotationsellipsoiden auf. Diese werden ebenfalls wie in modernen Wolter-Teleskopen häufig verschachtelt ("genestet") angeordnet.
| Patentnummer | Jahr | Titel |
|---|---|---|
| US 4 941 163 A | 1985 | Multispectral glancing incidence X-ray telescope |
| WO 2005 119 365 A2 | 2005 | A high-efficiency spectral purity filter for EUV lithography |
| Patentnummer | Jahr | Titel |
|---|---|---|
| US 5 016 265 A | 1990 | Variable magnification variable dispersion glancing incidence imaging x-ray spectroscopic telescope |
© 2013 Deutsches Patent- und Markenamt | 22.02.2013